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利用原子力显微镜研究了不同淀积温度条件下低压化学气相淀积多晶硅薄膜的表面形貌。发现淀积时间一定时，随着淀积温度的升高，多晶硅薄膜的晶粒尺寸和表面粗糙度均非线性地增大。
原子力显微镜研究多晶硅和铝硅合金表面形貌
【摘 要】
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利用原子力显微镜研究了不同淀积温度条件下低压化学气相淀积多晶硅薄膜的表面形貌。发现淀积时间一定时，随着淀积温度的升高，多晶硅薄膜的晶粒尺寸和表面粗糙度均非线性地增大
【机 构】
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东南大学,无锡华晶集团
【出 处】
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应用科学学报
【发表日期】
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1996年4期
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