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利用低温远红外吸收技术，研究了硅单昌中氮杂质对热施主及浅热施主堪的影响，指出氮原子有抑制硅中热施主形成的能力，而微氮硅中的浅热施主和氧－氮复合体直接相关。
微氮硅中热施主和浅热施主的低温远红外研究
【摘 要】
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利用低温远红外吸收技术，研究了硅单昌中氮杂质对热施主及浅热施主堪的影响，指出氮原子有抑制硅中热施主形成的能力，而微氮硅中的浅热施主和氧－氮复合体直接相关。
【机 构】
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浙江大学高纯硅及硅烷国家重点实验室
【出 处】
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半导体学报
【发表日期】
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1995年8期
【基金项目】
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国家教委博士点基金
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