【摘 要】
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本文以H3BO3为插层剂,分别采用电解氧化法以及熔盐法制备石墨层间化合物(graphite intercalation compounds)GICs,并以此为碳源进行高压合成含硼金刚石的研究,通过X射线衍射
【机 构】
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河北省亚稳材料科学与技术重点实验室,秦皇岛市市政工程有限公司
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本文以H3BO3为插层剂,分别采用电解氧化法以及熔盐法制备石墨层间化合物(graphite intercalation compounds)GICs,并以此为碳源进行高压合成含硼金刚石的研究,通过X射线衍射分析研究GICs的阶结构.对所获得的金刚石进行FTIR及拉曼光谱分析以及SEM观察,并测定其抗氧化性及电阻.结果表明,采用电解氧化法和熔盐法均可制备混合阶数的H3BO3-GICs,经热处理净化后,作为碳源,在1350℃、5GPa的条件下合成,获得含硼金刚石,其氧化性及导电性均有提高.
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