高纯InP多晶的合成技术

来源 :半导体技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:ARMYUN1981
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采用原位磷注入法合成了不同化学配比的磷化铟(InP)多晶.分析了熔体温度、磷泡压力和环境压力对合成速率的影响;对不同化学配比的多晶样品进行霍尔测试和辉光放电质谱(GDMS)测试,分析了影响InP多晶纯度的因素.结果 表明,合成时熔体温度为1 353~1 370 K时,熔体呈富磷或者化学配比状态,熔体温度高于1 370 K或低于1 353 K时,熔体呈富铟状态;合成过程中,通过调节源炉升温的速度来控制磷泡内压力与环境压力,避免熔体倒吸堵住注入口引起炸泡,并最大程度地减少磷的损失;合成时熔体温度高于1 370 K会造成合成的多晶呈富铟状态、合成时间较长,且石英坩埚中的Si元素长时间在高温下会对熔体造成沾污,从而降低多晶纯度.
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