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化学沉积Ni-P膜电阻器热处理工艺研究
化学沉积Ni-P膜电阻器热处理工艺研究
来源 :天津大学学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:kk666
【摘 要】
:
研究热处理工艺对化学沉积金属膜电阻器的温度系数和潮湿系数的影响。发现热处理工艺可使Ni-P膜电阻器获得优良的电性能。对热处理前后的Ni-P膜层做了电子衍射分析,探讨了热
【作 者】
:
刘仲娥
袁彩华
【机 构】
:
天津大学电子工程系,天津大学分析中心
【出 处】
:
天津大学学报
【发表日期】
:
1992年1期
【关键词】
:
化学沉积
温度系数(TCR)
潮湿系数(MCR)
热处理工艺
衍射花样
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研究热处理工艺对化学沉积金属膜电阻器的温度系数和潮湿系数的影响。发现热处理工艺可使Ni-P膜电阻器获得优良的电性能。对热处理前后的Ni-P膜层做了电子衍射分析,探讨了热处理前后的微观结构。
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