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采用等离子体增强射频磁控溅射沉积方法，在室温下制备了Fe-O合金薄膜。研究了氧的掺杂量和薄膜厚度对薄膜软磁和高频特性的影响。结果发现少量氧的掺杂不导致低饱和磁化强度铁氧化物的形成，但可使薄膜晶粒细化，矫顽力下降。在薄膜厚度低于150nm且氧气与氩气相对流量比为2．4％的条件下，薄膜的实部磁导率高达1100且能够维持到1GHz．