【摘 要】
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用磁控射频溅射法制备了FeCoAlOC薄膜,研究了Al-O和C元素的添加对FeCo合金薄膜的软磁性和高频特性的影响.随着Al,O,C元素添加量的增加,薄膜微结构发生了由多晶到纳米晶再到非
【机 构】
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兰州大学磁学与磁性材料教育部重点实验室磁性材料研究所,
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用磁控射频溅射法制备了FeCoAlOC薄膜,研究了Al-O和C元素的添加对FeCo合金薄膜的软磁性和高频特性的影响.随着Al,O,C元素添加量的增加,薄膜微结构发生了由多晶到纳米晶再到非晶状态的转化,软磁性得到提高;薄膜电阻率则由最初的87μΩ·cm增至900μΩ·cm,高频特性得到改善:截止频率最高可达2.9GHz,低频实部磁导率最高可到达400.
FeCoAlOC thin films were prepared by magnetron RF sputtering and the effects of Al-O and C additions on soft magnetic properties and high-frequency properties of FeCo films were investigated. With the addition of Al, O and C elements, The microstructure changed from polycrystal to nanocrystal to amorphous state, and the soft magnetic property was improved. The film resistivity increased from 87μΩ · cm to 900μΩ · cm at the beginning, and the high frequency characteristic was improved: the cutoff frequency was up to 2.9GHz, low-frequency real part of the permeability up to 400.
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