ICPCVD制备硅薄膜结构的椭偏光谱研究

来源 :稀有金属材料与工程 | 被引量 : 0次 | 上传用户:caozheng853
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利用单圈内置式ICP-CVD方法在室温下制备了Si薄膜。在拉曼光谱、原子力显微镜(AFM)对样品结构分析的基础上,采用对样品结构无损伤的椭圆偏振光谱(SE)法对样品进行了测量,结合有效介质近似(EMA)模型,对样品的微结构进行了计算拟合。拉曼光谱及AFM分析表明:样品为具有纳米晶相的Si薄膜;分光椭圆偏振法结合EMA模型对样品微结构的拟合分析得出了同样的结论,说明即使在室温下用ICP-CVD也获得了具有纳米晶相的Si薄膜,薄膜微结构与源气体SiH4浓度有密切关系。说明分光椭圆偏振法是研究薄膜材料的一种有力
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