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论述了第五世代双扫描平台浸波式扫描曝光机的性能和进展.表明了在高速扫描状态下有生产价值的套刻和聚焦性能的实现.浸液式设备更多的关键部分与缺陷有关,而且该机的改进是通过有生产价值的缺陷水平方面来体现的.为了保持这种缺陷水平的改进效果,需要在圆片应用中进行专门稳定的测量.特加是边缘空泡除去(EBR)设计和圆片斜面良流线性是很重要的.