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期刊论文
LTCC工艺技术的重点发展与应用
LTCC工艺技术的重点发展与应用
来源 :集成电路通讯 | 被引量 : 0次 | 上传用户:longlivewebdynpro
【摘 要】
:
本文主要介绍LTCC工艺制造技术在目前和将来一段时间内的重点发展与应用情况,包括平面零收缩LTCC基板、空腔制作、精密细线条加工、带敏感结构LTCC基板,以及LTCC集成组件与模块
【作 者】
:
何中伟
【机 构】
:
中国兵器工业第214研究所
【出 处】
:
集成电路通讯
【发表日期】
:
2008年2期
【关键词】
:
LTCC(低温共烧陶瓷)
基板
生瓷片
MCM
微系统
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本文主要介绍LTCC工艺制造技术在目前和将来一段时间内的重点发展与应用情况,包括平面零收缩LTCC基板、空腔制作、精密细线条加工、带敏感结构LTCC基板,以及LTCC集成组件与模块、MCM用标准化封装外壳、LTCC用于微系统和传感器等。
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