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纳米压印技术是一种高分辨率、廉价、高效的纳米结构制备技术。它既继承了传统光刻技术所具有的并行性，又同时拥有传统光刻技术不易达到的纳米结构制备能力，这为今后纳米结构的广泛应用提供了良好的条件。文章介绍了纳米热压印技术中核心工艺流程，包括：模板的制备、抗粘层的制备、压印过程中温度与压力的影响、反应离子刻蚀，并且给出了利用纳米热压印技术制备的光栅结构，最后展望了纳米压印技术的前景。