用于氮化铝陶瓷基片的电子浆料

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研制了用于AlN陶瓷基片的导体银浆和电阻浆料。采用低PbO含量晶化玻璃料配制银导体浆料,玻璃软化点430~450℃。电阻浆料采用PbO(质量分数小于6%)的晶化玻璃料B、C、D三种,软化点分别为520℃、690℃、610℃。改变RuO2与玻璃相的质量比,能控制电阻浆料的方阻值。质量比在50比50至15比85之间。加入添加剂MnO2可改善电阻浆料的TCR,阻值在20Ω/□~1MΩ/□范围内,TCR绝对值小于200×10-6/℃。
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