用光学方法研究掺硼 a-Si_(1-x)C_x∶H 膜的隙态密度

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用光透射法测得了 p-a-Si_(1-x)C_x∶H 膜的隙态密度。对于与隙态有关的弱吸收区,利用 Mott-Davis 近似和隙态为高斯分布的假设,得到了远离平衡费米能级处的隙态分布。对于未掺杂和轻掺杂样品,隙态高斯分布的峰值 N(E_t)约为10~(18)/cm~3·eV 的数量级,随着掺 B 量的增加 N(E_t)也增大。 The gap density of p-a-Si_ (1-x) C_x:H films was measured by light transmission method. For the weak region associated with the gap, the distribution of the gap distance away from the equilibrium Fermi level is obtained using the assumption of the Mott-Davis approximation and the Gaussian distribution of the gap. For undoped and lightly doped samples, the peak N (E_t) of the Gaussian distribution is about 10 ~ (18) / cm ~ 3 · eV, and N (E_t) also increases with the increase of B content .
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