反应磁控溅射制备的Cr-N薄膜的成相行为

来源 :金属功能材料 | 被引量 : 0次 | 上传用户：wulanshaobu911

【摘要】

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采用反应磁控溅射在不锈钢衬底上制备Cr-N薄膜,并研究了基片温度、氮气分压和溅射功率变化对薄膜相组成的影响.结果表明,基片温度升高使薄膜由单一的CrN相变成CrN和Cr2N两相

【作者】

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赵韦人李鸣楚伍锦添於元炯

【机构】

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汕头大学应用物理系,浙江师范大学物理系

【出处】

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金属功能材料

【发表日期】

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2004年4期

【关键词】

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反应磁控溅射 X射线衍射成相行为制备立方结构六方结构 Cr-N薄膜 reactive magnetron sputtering Cr-N film

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采用反应磁控溅射在不锈钢衬底上制备Cr-N薄膜,并研究了基片温度、氮气分压和溅射功率变化对薄膜相组成的影响.结果表明,基片温度升高使薄膜由单一的CrN相变成CrN和Cr2N两相共存,同时使有效的沉积速率下降;在基片温度为373K、溅射功率约45W时,氮气和氩气流量比在1:4到3:2的范围内变化时,薄膜的相组成几乎没有明显的变化;过高的溅射功率使薄膜以非晶态的形式存在.热处理后的Cr-N薄膜通常有CrN和Cr2N两相共存.

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