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采用共沉淀法制备尖晶石型复合氧化物NiCo2O4,然后将其加入瓦特镀镍液中,复合电沉积了Ni/NiCo2O4复合镀层.通过改变镀液pH值、阴极电流密度jk等条件,探索复合电沉积的最佳工艺条件.运用扫描电子显微镜（SEM）、能谱分析（EDS）和X射线衍射（XRD）表征了复合镀层的表面形貌、颗粒含量和结构.结果表明：在镀液pH=6.2 和jk=100 mA·cm-2的条件下所得Ni/NiCo2O4复合镀层中,NiCo2O4的含量达到最高（30.6%,w）.在5 mol·L-1的KOH溶液中