衬底温度对PLD方法生长Si（111）基ZnO薄膜结晶质量和发光特性的影响

来源 :稀有金属材料与工程 | 被引量 : 0次 | 上传用户：ailing770

【摘要】

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在不同衬底温度下用脉冲激光沉积法（PLD）在n型硅（111）衬底上生长ZnO薄膜.通过对薄膜进行的X射线衍射（XRD）、傅里叶红外吸收（FTIR）、光致发光谱（PL）、透射电子显微镜（TEM）和选区电子衍射（SA

【作者】

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庄惠照何建廷薛成山张晓凯田德恒胡丽君薛守斌

【机构】

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山东师范大学

【出处】

：

稀有金属材料与工程

【发表日期】

：

2006年7期

【关键词】

：

PLD ZNO 薄膜六方纤锌矿结构 PLD ZnO thin film hexagonal wurtzite structure

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在不同衬底温度下用脉冲激光沉积法（PLD）在n型硅（111）衬底上生长ZnO薄膜.通过对薄膜进行的X射线衍射（XRD）、傅里叶红外吸收（FTIR）、光致发光谱（PL）、透射电子显微镜（TEM）和选区电子衍射（SAED）的测量,研究了衬底温度对PLD方法制备的ZnO薄膜的结晶质量、发光性质以及微观结构的影响.发现在600℃的衬底温度下可以得到结晶质量最佳的ZnO薄膜.随着晶粒直径的减小,出现量子限制效应,在红外吸收和光致发光中的峰位均产生了蓝移.

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