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针对双面光刻机运动控制需求，提出模块化的设计方案，重点分析了对准工作台PID调节方法，实现了高动态响应、高精度运动控制。
双面光刻机运动控制系统设计分析
【摘 要】
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针对双面光刻机运动控制需求，提出模块化的设计方案，重点分析了对准工作台PID调节方法，实现了高动态响应、高精度运动控制。
【机 构】
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中国电子科技集团公司第四十五研究所
【出 处】
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电子工业专用设备
【发表日期】
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2015年4期
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