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通过改变UV照射时间、照射后的操作速度、光复活时的温度、时间和光强度，以光复活和暗处理后细胞存活数的比值为依据，研究了不同条件下E．coli受UV照射后的光复活效应。并以E．coli对5μg/ml链霉素抗性突变率为指标，比较了不同剂量UV照射后光复活和暗处理对E．coli突变率的影响。结果表明：光复活效应在温度10℃时最明显，且与照射时间、照射后的操作速度、光复活时间和光强度成正相关；在中、低剂量UV照射后，暗处理较光复活后E．coli对链霉素抗性突变率明显高，而在高剂量下，光复活则显著高于暗处理后的突变