【摘 要】
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采用空心阴极法产生高密度氦等离子体对纯钨进行辐照实验,并对氦辐照后钨表面形貌及其性能的变化进行了研究.辐照实验参数:辐照时间分别为0.5,2以及3h,氦离子注入能量约100 e
【机 构】
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表面物理与化学重点实验室 绵阳621900中国工程物理研究院 绵阳621900;
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采用空心阴极法产生高密度氦等离子体对纯钨进行辐照实验,并对氦辐照后钨表面形貌及其性能的变化进行了研究.辐照实验参数:辐照时间分别为0.5,2以及3h,氦离子注入能量约100 eV,束流密度约1022/m2·s,温度约1850 K.实验中分别使用光学显微镜、扫描电子显微镜及X射线衍射手段对氦离子轰击后的纯钨表面进行分析表征,发现在经历一定剂量的氦离子(0.5h,1.8×1025/m2)辐照后,原本光滑的钨表面产生了三种不同的形貌,分别为波纹状、三角锥状和纳米绒毛层.同时实验结果表明:表面形貌的变化与氦离子的辐照剂量密切相关,随着辐照剂量的增多,光滑表面逐渐减少,波纹状、三角锥状以及纳米绒毛层的区域逐渐增多,并且前两种形貌最终向纳米绒毛结构层转变.本文还研究了钨的表面形貌与散射率之间的关系,结果表明:散射率随着绒毛结构的增多而下降.
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