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对各种磁控溅射的工艺参数控制技术进行比较,分析各自的特色,并指出光学厚度监控对于制备精密光学多层膜的反应溅射工艺的重要性.
磁控溅射工艺控制模式比较
【摘 要】
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对各种磁控溅射的工艺参数控制技术进行比较,分析各自的特色,并指出光学厚度监控对于制备精密光学多层膜的反应溅射工艺的重要性.
【机 构】
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中南实业国际(深圳)有限公司(MT8广东深圳)
【出 处】
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第十一届全国薄膜学术交流会
【发表日期】
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2001年11期
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