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日本工业技术计量研究院研究出高精度测定超大规模集成电路中微小图案线宽的测量装置。为测定图案的线宽，必须掌握检测刻线边缘位置的方法，并具有测定边缘间距的长度标尺。在这次开发的装置中，边缘位置由电子束检测，而用髙灵敏度激光干涉仪作长度标尺，因而能以毫微米的分辨率对微米量级的线宽作高精度测量。
用电子束与激光干涉仪精密测定集成电路图案刻线宽度的装置
【摘 要】
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日本工业技术计量研究院研究出高精度测定超大规模集成电路中微小图案线宽的测量装置。为测定图案的线宽，必须掌握检测刻线边缘位置的方法，并具有测定边缘间距的长度标尺。在这次开发的装置中，边缘位置由电子束检测，而用髙灵敏度激光干涉仪作长度标尺，因而能以毫微米的分辨率对微米量级的线宽作高精度测量。
【出 处】
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激光与光电子学进展
【发表日期】
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1985年22期
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