【摘 要】
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目的研究溅射功率对CoCrFeNi高熵合金薄膜硬度和电阻率的影响,期望获得同时具有高硬度和高电阻率的高熵合金薄膜,为其在电阻薄膜领域的应用提供实验基础。方法在不同溅射功率
【机 构】
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南京工程学院材料科学与工程学院,江苏省先进结构材料与应用技术重点实验室,东南大学材料科学与工程学院
【基金项目】
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国家自然科学青年基金(51301087,51601089);江苏省先进结构材料与应用技术重点实验室开放基金(ASMA201708);南京工程学院校级科研基金项目资助(CKJB201701);南京工程学院大学生科技创新基金(TB201902093)~~
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目的研究溅射功率对CoCrFeNi高熵合金薄膜硬度和电阻率的影响,期望获得同时具有高硬度和高电阻率的高熵合金薄膜,为其在电阻薄膜领域的应用提供实验基础。方法在不同溅射功率条件下(40、60、80、100 W),利用CoCr合金靶、Ni片和Fe片拼接成合金靶,采用磁控溅射法在硅基底表面沉积CoCrFeNi高熵合金薄膜。利用XRD分析薄膜相结构,通过SEM分析薄膜成分和形貌,利用显微硬度计测量薄膜硬度,采用双电测四点探针法测定薄膜电阻率。结果不同溅射功率下制备的CoCrFeNi薄膜均与基底结合良好,呈柱状生长
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