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浅谈光成像抗蚀抗电镀油墨(湿膜)的曝光
浅谈光成像抗蚀抗电镀油墨(湿膜)的曝光
来源 :第六届全国印制电路学术年会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:kevinchen12344
【摘 要】
:
本文叙述了光成像抗蚀抗电镀油墨近几年来在不同领域的扩大应用和在使用中,对光源的选择、如何进行合理曝光、在曝光中相关工序的影响及光源和设备的发展前景.
【作 者】
:
李春甫
邵磊
【机 构】
:
北京力拓达科技公司
【出 处】
:
第六届全国印制电路学术年会
【发表日期】
:
2000年10期
【关键词】
:
湿膜
曝光
网印
光能量
印制电路板
感光度
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本文叙述了光成像抗蚀抗电镀油墨近几年来在不同领域的扩大应用和在使用中,对光源的选择、如何进行合理曝光、在曝光中相关工序的影响及光源和设备的发展前景.
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