【摘 要】
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使用SnCl2和SnCl4的乙醇溶液作为锡源，应用超声喷雾热解法制备了SnO2薄膜，考察了不同氧化剂用量和衬底预热处理对薄膜结构和性能的影响。使用X-射线衍射仪及扫描电子显微镜对薄膜进行结构及表面形貌分析，使用紫外分光光度计和四探针测试仪分析薄膜的光电性能。结果表明，SnCl2作为锡源，加入10%氧化剂，衬底在800℃条件下预热处理后制备出的SnO2薄膜，透过率高达90%，方块电阻为7.32Ω/□
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使用SnCl2和SnCl4的乙醇溶液作为锡源，应用超声喷雾热解法制备了SnO2薄膜，考察了不同氧化剂用量和衬底预热处理对薄膜结构和性能的影响。使用X-射线衍射仪及扫描电子显微镜对薄膜进行结构及表面形貌分析，使用紫外分光光度计和四探针测试仪分析薄膜的光电性能。结果表明，SnCl2作为锡源，加入10%氧化剂，衬底在800℃条件下预热处理后制备出的SnO2薄膜，透过率高达90%，方块电阻为7.32Ω/□，电阻率为1.93×10-3Ω·cm的，达到了透明导电薄膜的要求。
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