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采用三电极体系，以钼片为工作电极，大面积铂网为辅助电极，饱和甘汞电极（SCE）为参比电极，以氯化铜、氯化铟、亚硒酸为原料，在无水乙醇溶液中，用阴极恒流和恒压两种沉积方法制备出CIS前驱体薄膜，采用XRD和EDAX对制备的薄膜进行了表征，分析了沉积方式、镀液离子浓度、导电盐（LiCl）含量及热处理工艺等因素对薄膜成分及形貌的影响，并对电沉积CIS薄膜的机理进行了初步探讨。在最优条件下所制备的薄膜成分接近标准比且表面致密、均匀。