目的探讨3M玻璃离子保护膜对口腔正畸患者牙釉质脱矿的影响。方法选取2016年1月～2017年10月在我院口腔科进行口腔正畸治疗的54例患者为研究对象。随机分为对照组和观察组,每组27例患者。其中对照组27例患者共计537颗牙,观察组27例共计545颗牙。对照组患者正畸治疗期间每日常规口腔护理,每日早晚使用佳洁士含氟牙膏刷牙。观察组患者每日常规口腔护理,同时每隔6个月涂布3M玻璃离子保护膜(3M ClinproTMXT Varnish)。两组随访12个月。观察比较治疗前,治疗6个月,治疗12个月,牙釉质脱矿等情况。结果①治疗后,随着治疗时间的延长,两组的脱矿指数均逐渐升高。治疗后12个月,两组脱矿指数均较治疗前明显升高,且观察组明显低于对照组(P<0.05)。②观察组脱矿率为10.64%,明显低于对照组的15.83%,差异有统计学意义(P<0.05)。对照组脱矿以2度为主(54.12%),观察组脱矿以1度为主(74.14%)。结论在口腔正畸治疗中牙釉质脱矿发生率较高,3M玻璃离子保护膜可有效减少牙釉质脱矿的发生,具有较好的临床效果。