我国首台自主研发“光刻机”面世

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国内首台具有世界领先水平、拥有自主知识产权的无掩膜光刻机近期在合肥面世。由中国工程院院士张钟华、叶声华等专家组成的鉴定组在鉴定后认为,芯硕半导体(中国)有限公司的“光刻机”技术,填补了国内光刻机在该项领域的空白,并且在国际同类产品中处于先进水平。 The first Taiwan has the world’s leading level, with independent intellectual property rights maskless lithography machine recently launched in Hefei. The appraisal team composed of experts from the Chinese Academy of Engineering Zhang Zhonghua and Ye Shenghua concluded that the “Lithography ” technology of the core semiconductor company (China) Co., Ltd. has filled the blank of the domestic lithography machine in this field, and In the international similar products at the advanced level.
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