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厦门大学化学化工学院化学系采用自组装技术在铜电极表面上制备了3-巯基丙基三甲氧基硅烷自组装膜，利用红外光谱研究了该自组装膜结构，运用极化曲线和交流阻抗图谱等电化学方法考察了3-巯基丙基三甲氧基硅烷膜在0，5mol NaOH溶液中对铜电极的缓蚀性能。结果表明，在不同浓度的3-巯基丙基三甲氧基硅烷乙醇溶液中组装得到的硅烷膜均表现出较好的抗腐蚀性。