【摘 要】
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在超大规模集成电路中,为了满足波长193nm数值孔径为1.35的45nm节点紫外光刻曝光光学系统对高分辨率的要求,设计了一种新型的均匀性补偿器件,用于提高照明系统的出射光均匀性
【机 构】
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吉林工程技术师范学院量子信息技术交叉学科研究院,吉林省量子信息技术工程实验室,长春理工大学光电信息学院
【基金项目】
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国家自然科学基金项目(No.91338116);吉林省教育厅科学研究项目(No.JJKH20181363KJ)资助
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在超大规模集成电路中,为了满足波长193nm数值孔径为1.35的45nm节点紫外光刻曝光光学系统对高分辨率的要求,设计了一种新型的均匀性补偿器件,用于提高照明系统的出射光均匀性从而实现光刻线条的高度均一性。该照明均匀性补偿器的主要功能是实现对照明视场的能量分布进行微调,从而减小系统的残余不均匀性,保证系统在掩膜面及硅片面上的能量分布均匀性达到更高指标的要求。此外,使用CODEV软件对该照明系统的均匀性进行仿真分析,研究发现采用新型均匀性补偿器可以在传统照明和离轴照明模式下同时的光刻照明系统对掩膜面的非均匀
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