【摘 要】
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近些年光纤激光器输出功率日益增加,这对掺杂光纤提出了更高的要求。当前制作掺杂光纤主要采用化学气相沉积（MCVD）与溶液掺杂相结合的方法,采用传统的溶液掺杂工艺存在生产周期
【机 构】
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中国电子科技集团公司第四十六研究所
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近些年光纤激光器输出功率日益增加,这对掺杂光纤提出了更高的要求。当前制作掺杂光纤主要采用化学气相沉积（MCVD）与溶液掺杂相结合的方法,采用传统的溶液掺杂工艺存在生产周期长、成本高等弊端,为此在原有溶液掺杂的基础上进行了改进,而且改进后的新工艺与传统的化学气相沉积（MCVD）设备兼容。与传统的溶液掺杂方法相比,新工艺显著增加了光纤中离子的浓度,可直接用于制造高功率大芯径稀土掺杂光纤。
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