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本文通过对SU-82075负性光刻胶技术的研究，初步解决了厚胶工艺中易出现的胶的均匀性问题，并研究了厚胶曝光工艺。用EVG620型曝光机获得了厚度为100μm、高分辨率的厚胶图形。
厚胶光刻工艺技术
【摘 要】
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本文通过对SU-82075负性光刻胶技术的研究，初步解决了厚胶工艺中易出现的胶的均匀性问题，并研究了厚胶曝光工艺。用EVG620型曝光机获得了厚度为100μm、高分辨率的厚胶图形。
【机 构】
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中国兵器工业第214研究所
【出 处】
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集成电路通讯
【发表日期】
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2004年4期
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