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回顾了GaN体单晶材料的发展历程并介绍了研究现状。主要讨论了HVPE法和气相传输法等气相生长方法，以及HNPSG、助溶剂法、氨热法、提拉法等熔体生长方法。针对每种生长方法，阐述了其生长原理、特点及研究现状。
GaN体单晶生长技术研究现状
【摘 要】
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回顾了GaN体单晶材料的发展历程并介绍了研究现状。主要讨论了HVPE法和气相传输法等气相生长方法，以及HNPSG、助溶剂法、氨热法、提拉法等熔体生长方法。针对每种生长方法，阐述
【机 构】
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中国电子科技集团公司第四十六研究所
【出 处】
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半导体技术
【发表日期】
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2007年2期
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