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综述了目前国内外以As-基与Sb-基为基础的Ⅲ-V族窄带隙掺Mn稀磁性半导体材料的研究现状，系统地介绍了其生长方法与物理特性的研究进展，并指出其发展趋势与应用前景．
Ⅲ-V族窄带隙掺Mn稀磁性半导体材料研究进展
【摘 要】
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综述了目前国内外以As-基与Sb-基为基础的Ⅲ-V族窄带隙掺Mn稀磁性半导体材料的研究现状，系统地介绍了其生长方法与物理特性的研究进展，并指出其发展趋势与应用前景．
【机 构】
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上海电力学院能源与环境工程学院
【出 处】
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上海电力学院学报
【发表日期】
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2007年1期
【基金项目】
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上海市重点学科建设项目（P1304）,上海市电力学院青年基金（K-2004-34）.
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