【摘 要】
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深紫外线光刻技术利用KrF激光作为光源,该技术在半导体行业的应用已进入第10年.为满足行业对更高生产力的需求,KrF光源从早期的10W产品发展到以Cymer ELS-7010为代表的40W最
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深紫外线光刻技术利用KrF激光作为光源,该技术在半导体行业的应用已进入第10年.为满足行业对更高生产力的需求,KrF光源从早期的10W产品发展到以Cymer ELS-7010为代表的40W最新一代产品.就像前几代一样,输出光谱和剂量性能是随着照射工具的光学和分级技术的进步而改进,目前CD分辨率可以达到90 nm甚至更加精细.2005年,将有超过75%的新KrF DUV设备进入亚洲市场,KrF光源技术在这个地区将会受到大量关注.但是,随着KrF扫描仪的技术日渐成熟,KrF光源的未来前景会如何呢?
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