Design and fabrication of a planar patch-clamp substrate using a silicon-on-insulator wafer

来源 :半导体学报 | 被引量 : 0次 | 上传用户:daxiang11
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The planar patch-clamp technique has been applied to high throughput screening in drug discovery.The key feature of this technique is the fabrication of a planar patch-clamp substrate using appropriate materials.In this study,a planar patch-clamp substrate was designed and fabricated using a silicon-on-insulator (SOI) wafer.The access resistance and capacitance of SOI-based planar patch-clamp substrates are smaller than those of bulk silicon-based planar substrates,which will reduce the distributed RC noise. The planar patch-clamp technique has been applied to high throughput screening in drug discovery. The key feature of this technique is the fabrication of a planar patch-clamp substrate using appropriate materials. In this study, a planar patch-clamp substrate was designed and fabricated using a silicon-on-insulator (SOI) wafer. The access resistance and capacitance of SOI-based planar patch-clamp substrates are smaller than those of bulk silicon-based planar substrates, which will reduce the distributed RC noise.
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