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研究铜、铝作为银薄膜的缓冲层对银薄膜的光电学性质的影响．利用热蒸发技术在BK-7玻璃基底上沉积Ag（220nm）／Al（20nm）和Ag（220nm）／Cu（20nm）薄膜，沉积薄膜在温度为400、500C的大气条件下退火处理1h．样品的表面形貌用原子力显微镜观测，光学和电学性质分别用分光光度计和van der Pauw方法测量．实验结果表明，相对于同等条件下制备的纯银薄膜，附加缓冲层大大提高了退火态薄膜的光电性质，改善了银薄膜的热稳定性．不同的缓冲层对银薄膜光电性质影响程度不同：在同一退火温度下，在可见