美日大厂NF3供给迟缓南韩厂商OCIMaterials趁胜追击积极扩增产能

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台北讯:三氟化氮(NF3)是一种温室气体,但也是半导体及TFTLCD生产制程中重要的工业用气体,由于其具备清洁化学气相沉积(cvD)制程以及干蚀刻(DryEtching)~程硅化物的特性,而成为目前半导体及面板产业的特殊气体。DIGITIMESResearch资深分析师兼副主任黄铭章分析,由于半导体芯片及面板近10年来价格快速下跌,相关上游材料及气体除非有近似寡占供应的情形,否则平均价格亦跟进大幅下跌,以NF3为例,2001至2010年的年平均价格跌幅约为25%,近年来每年亦大约是20%或更高的跌幅,因此
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