【摘 要】
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利用实验室自有大型中试线磁控溅射设备,以纯度为99.99％的石墨为靶材,以Ar、N2为溅射和反应气体,采用直流磁控溅射法,制备了一系列碳自掺杂氮化碳薄膜.利用XRD、SEM、拉曼光谱
【机 构】
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中建材蚌埠玻璃工业设计研究院有限公司,安徽 蚌埠 233018;浮法玻璃新技术国家重点实验室,安徽 蚌埠 233018
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利用实验室自有大型中试线磁控溅射设备,以纯度为99.99％的石墨为靶材,以Ar、N2为溅射和反应气体,采用直流磁控溅射法,制备了一系列碳自掺杂氮化碳薄膜.利用XRD、SEM、拉曼光谱等检测手段对薄膜的成分、形貌、光学性能以及电阻率等进行表征.结果表明:溅射过程中通过对N进行浓度梯度控制,成功实现了碳自掺杂,同时氮化碳薄膜已初具晶型;碳自掺杂很好的调节了薄膜的电阻率,其值可根据需要在很宽的范围内(超导至高阻)调节;透过率基本维持在87％以上.同时氮的掺入对薄膜碳也起到了稳定的作用.
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