【摘 要】
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<正> 微电子学和光电子学的重要性已被人们有所认识。微电子学和光电子学器件制备的工艺技术都是十分复杂的,与电子工程、物理、化学、化学工程、光刻学和材料科学等有密切的
【机 构】
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机械电子工业部第44研究所,机械电子工业部第44研究所重庆632163,重庆632163
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<正> 微电子学和光电子学的重要性已被人们有所认识。微电子学和光电子学器件制备的工艺技术都是十分复杂的,与电子工程、物理、化学、化学工程、光刻学和材料科学等有密切的联系。在诸多复杂的工艺中,构成的氧化层与硅界面之间的物理特性好坏是硅表面器件成功与否的关键。如何准确地控制硅界面的性质,是器件研制者面临的难题。这不仅要求界面有稳定的化学性能和电学性能,而且氧化膜在接近界面处有绝缘作用和良好的介电强度,当然不允许出现针孔。可采用很多手段来控制硅界面的性质。这里只谈谈与特气有关的两种手段。
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