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基片表面预处理对热丝CVD法生长金钢石薄膜的影响
基片表面预处理对热丝CVD法生长金钢石薄膜的影响
来源 :微细加工技术 | 被引量 : 0次 | 上传用户:gutj
【摘 要】
:
本文研究了在热丝CVD方法生长金刚石薄膜中,基片表面的研磨处理对金刚石成核密度以及生长膜结构的影响。发现基片表面的预处理一方面可以提高金刚石的成核密度,另一方面又使
【作 者】
:
杨国伟
毛友德
【机 构】
:
航空航天部第014中心,合肥工业大学应用物理系
【出 处】
:
微细加工技术
【发表日期】
:
1993年1期
【关键词】
:
金刚石
薄膜
热丝
化学气相沉积
基片
预处理
HFCVD
diamond thin film
surface polishing
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本文研究了在热丝CVD方法生长金刚石薄膜中,基片表面的研磨处理对金刚石成核密度以及生长膜结构的影响。发现基片表面的预处理一方面可以提高金刚石的成核密度,另一方面又使生长膜的结构变得不利于应用。最后讨论了基片表面预处理对金刚石成核作用的机理和两种新的表面预处理方法。
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