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研究了溶液中的铜离子在硅片表面的沉积情况，尝试采用几种螯合剂来减少铜在硅片表面的沉积。GFAAS的测试结果表明，HF稀溶液中加入少量螯合剂。均可以使硅片表血的金属Cu的沉积量显著减少，但不同的螫合剂效果不同，而且与溶液中螯合剂与铜形成的络合物稳定性质并不完全一致。加入螯合剂后，铜离子与螯合剂不仅在溶液中反应，而且在硅片表面形成竞争吸附，对铜离子在硅片表面的沉积量影响较大。