大抛光模磁流变超光滑平面抛光技术研究

来源 :金属加工:冷加工 | 被引量 : 0次 | 上传用户:hebe2010
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随着光电通信及半导体照明技术的迅速发展,超光滑平面元器件需求越来越大。该类器件表面要求达到亚纳米级表面粗糙度、微米级面形精度且无表面和亚表面损伤,传统超精密抛光技术难以兼顾效率、成本及损伤等多方面的要求,无法适应大批量生产。论文在对比分析国内外超光滑表面加工技术的基础上,提出了一种大抛光模磁流变超光滑平面抛光技术,为面形精度在微米级的超光滑平面提供一种高效低廉的无损抛光加工方法,大幅增加瞬时抛光面积,显著提高了抛光效率。论文的研究成果对提高我国光电通信、半导体、LED、3C器件的加工技术水平,建立拥有自主
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