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以较低温度烧结获得的PMN—PT块材料为靶，采用脉冲激光沉积方法在石英衬底上制备了PMN—PT薄膜，研究了后续退火处理对PMN—PT薄膜的结构及光学特性的影响．结果显示，采用脉冲激光沉积可获得质量较好的钙钛矿结构的PMN—PT薄膜，优化的后续退火温度大约在550℃～750℃之间．
脉冲激光沉积PMN-PT薄膜及其性能研究
【摘 要】
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以较低温度烧结获得的PMN—PT块材料为靶，采用脉冲激光沉积方法在石英衬底上制备了PMN—PT薄膜，研究了后续退火处理对PMN—PT薄膜的结构及光学特性的影响．结果显示，采用脉冲激光
【机 构】
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武汉理工大学光纤传感技术与信息处理教育部重点实验室
【出 处】
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光子学报
【发表日期】
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2008年3期
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