工业乙烯基三乙氧基硅烷的GC—MS分析

来源 :有机硅材料 | 被引量 : 0次 | 上传用户:ydaf1aj9
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对乙烯基三乙氧基硅烷工业品进行了GC-MS分析,发现其中含有甲基三乙氧基硅烷(I)和1,3-二乙烯基-1,1,3,3-四乙氧基二硅氧烷等杂质,主要杂质为化合物I,占3.27%。理论分析认为:在三氯氢硅与氯乙烯的高温热缩合反应中发生的副反应产生了甲基三氯硅烷,它进一步与乙醇反应生成化合物I;据此提出了一些解决的方法。
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