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利用金属有机化舍物气相沉积（M0cvD）方法在A12O3（11^2 0）衬底上生长高质量的ZnO薄膜,在衬底温度450℃及生长舱压力加Pa的条件下。我们得到了ZnO纳米管．利用X射线衍射（XRD）对样品的结构进行了分析，利用光致发光（PL）对样品的光学性能进行了评价．
MOCVD法生长ZnO纳米管及光学性能评价
【摘 要】
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利用金属有机化舍物气相沉积（M0cvD）方法在A12O3（11^2 0）衬底上生长高质量的ZnO薄膜,在衬底温度450℃及生长舱压力加Pa的条件下。我们得到了ZnO纳米管．利用X射线衍射（XRD）对样品的结
【机 构】
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通化师范学院物理系
【出 处】
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通化师范学院学报
【发表日期】
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2007年4期
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