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采用溶液培养，研究不同浓度（0、30、80、130、180mg／L）的SiO2在4．0mg／LCdCl2浓度胁迫下对水稻幼苗体内镉（Cd）的分布规律。结果表明，在Cd胁迫下Si降低了水稻幼苗根、茎、叶、鞘、共质体和质外体Cd含量，其分布规律为：根〉茎叶〉茎鞘〉叶片，呈现出末端分布规律。说明Si促使大量的Cd累积在根中，根是Cd累积的主要部位，而茎、叶中Cd累积量较少。可见，Si可抑制水稻体内Cd由地下部分向地上部分运输，且能抑制地上部分Cd向叶片运输，并能减少Cd进入共质体。