论文部分内容阅读
利用在线椭偏仪对非晶碳氢膜进行了光学常数、沉积率和刻蚀率的测量。在无直流负偏压或偏压较小时，薄膜呈现聚合物结构，折射率和消光系数较小；当增加直流负偏压时，薄膜的折射率和消光系数显著提高，所成膜为硬质非晶碳氢膜。在以CH4作为气源进行沉积时，随着偏压的增加，沉积率先升高再降低，在偏压为-100V时，沉积率为最大。H2／N2（30％N2）的混合气体的刻蚀率要比单独用H2作为刻蚀气体的刻蚀率要大。对于CH4／N2（30％N2），在偏压从OV增加到300V过程中，在大约50V时，基底上的薄膜有一个从沉积到刻蚀的转