利用脉冲直流磁控溅射制备ZnO:Al薄膜的研究

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利用中频脉冲直流磁控溅射法制备了平面ZnO:Al(AZO)透明导电薄膜,研究了沉积压力、衬底温度和溅射功率对AZO薄膜光电性能、薄膜稳定性的影响。结果表明:在较低沉积压力、衬底温度及溅射功率下,可获得具有低电阻率、高透过率、高稳定性的AZO薄膜。 A planar ZnO: Al (AZO) transparent conductive film was prepared by DC magnetron sputtering with intermediate frequency pulse. The effects of deposition pressure, substrate temperature and sputtering power on the optoelectronic properties and film stability of AZO thin films were investigated. The results show that AZO thin films with low resistivity, high transmittance and high stability can be obtained at lower deposition pressure, substrate temperature and sputtering power.
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