【摘 要】
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在Cu衬底上用电沉积的方法沉积金属In，再通过硒蒸气硒化处理成功制备了CuInSe2薄膜。用X射线衍射（XRD）、扫描电镜（SEM）、X射线能谱（EDS）对制备的薄膜进行相组成、微观结构、表面形貌
【基金项目】
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国家自然科学基金资助项目（59493300）,教育部博士点基金资助项目（9800462）
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在Cu衬底上用电沉积的方法沉积金属In，再通过硒蒸气硒化处理成功制备了CuInSe2薄膜。用X射线衍射（XRD）、扫描电镜（SEM）、X射线能谱（EDS）对制备的薄膜进行相组成、微观结构、表面形貌等分析，研究了制备工艺条件对薄膜性能的影响。结果表明：电沉积的In在低温热处理阶段与衬底Cu扩散形成Cu—In合金预制层，预制层在硒化阶段生成CulnSe2，合金中过量Cu生成CuSe表面层，未反应的In转变为Cu36In9，形成Cu衬底／Cu16In9／CuInSe2／CuSe结构。
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