用Al作中间层的Si3N4陶瓷的扩散焊接

来源 :热加工工艺 | 被引量 : 0次 | 上传用户：Youmi8787

【摘要】

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在温度为600℃、压强为30 MPa和保温2 h的条件下,成功地实现了Si3N4/Al/Si3N4试样的真空扩散连接.用SEM和EPMA方法进行的连接机理分析表明,Si3N4和Al的连接是通过有限的原子

【作者】

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阎俊霞王立君

【机构】

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河北科技大学材料学院,天津大学材料学院

【出处】

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热加工工艺

【发表日期】

：

2002年6期

【关键词】

：

Si3N4/Al 连接扩散焊连接机理断裂机制 Si3N4/Al joining diffusion welding joining mechani

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在温度为600℃、压强为30 MPa和保温2 h的条件下,成功地实现了Si3N4/Al/Si3N4试样的真空扩散连接.用SEM和EPMA方法进行的连接机理分析表明,Si3N4和Al的连接是通过有限的原子相互扩散实现的.用SEM和EDXA方法研究了Si3N4/Al界面的断口.结果表明,Si3N4/Al界面的断裂模式属于界面脆性剥离.

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